【出 处】：《 高电压技术 》 EI CAS CSCD 2015年第41卷第12期 4198-4206页,共9页

【作 者】： 范杰清 [1,2] ; 郝建红 [1] ; 公延飞 [1] ; 蒋璐行 [1] ; 杨万清 [3] ; 张葆刚 [3]

【摘 要】 针对含有内部金属障碍物的开孔屏蔽腔体的结构特点,采用扩展的传输线方法理论,建立了平面波照射下腔体电场屏蔽效能的等效电路模型,推导了近似计算解析式,并计算分析了内部金属障碍物对开孔腔体屏蔽效能的影响,分析了障碍物跨度、到腔体开孔缝面的距离和障碍物开缝距离对腔体电场屏蔽效能的影响.在0～1 GHz范围内,利用传输线方法（transmission line method,TLM）计算了含内部障碍物腔体屏蔽效能,与CST软件仿真结果验证了本方法的有效性.计算结果表明：内部金属障碍物提高了腔体的屏蔽效能,改变了腔体的谐振频率,且障碍物尺寸越大对腔体影响越大;障碍物距离开缝面越远、跨度越大、障碍物开缝距离越近,腔体屏蔽效能越大.